氮化鋁（AlN）陶瓷作為一種新型電子封裝材料，憑借其優(yōu)異的熱導(dǎo)率（理論值高達(dá)320W/(m·K)）、良好的絕緣性能以及與半導(dǎo)體材料相匹配的熱膨脹系數(shù)，已成為高功率電子器件散熱基板的首選材料。然而，AlN陶瓷的強(qiáng)共價(jià)鍵特性導(dǎo)致其與金屬材料的浸潤(rùn)性較差，這給金屬化工藝帶來(lái)了巨大挑戰(zhàn)。下面由金瑞欣小編介紹當(dāng)前氮化鋁陶瓷基板金屬化的主流技術(shù)，并深入分析各工藝的特點(diǎn)及應(yīng)用前景。

一、氮化鋁陶瓷金屬化技術(shù)概述

1.1 機(jī)械連接技術(shù)

機(jī)械連接技術(shù)是最基礎(chǔ)的金屬化方法，主要包括熱套連接和螺栓連接兩種形式。該技術(shù)通過(guò)精密設(shè)計(jì)的機(jī)械結(jié)構(gòu)產(chǎn)生應(yīng)力實(shí)現(xiàn)AlN基板與金屬的固定。雖然具有工藝簡(jiǎn)單、成本低廉的優(yōu)勢(shì)，但由于連接處存在較大殘余應(yīng)力，在高溫環(huán)境下容易發(fā)生失效，因此僅適用于對(duì)可靠性要求不高的普通電子器件。

技術(shù)特點(diǎn)：

操作溫度：室溫

連接強(qiáng)度：中等

適用場(chǎng)景：消費(fèi)類電子產(chǎn)品

典型應(yīng)用：普通LED散熱基板

1.2 厚膜印刷技術(shù)（TPC）

厚膜印刷技術(shù)是當(dāng)前工業(yè)化生產(chǎn)中最成熟的金屬化工藝之一。該技術(shù)采用絲網(wǎng)印刷方式將特制導(dǎo)電漿料涂覆在AlN基板表面，經(jīng)過(guò)干燥和高溫?zé)Y(jié)后形成導(dǎo)電層。導(dǎo)電漿料通常由功能相（Ag、Cu等金屬粉末）、粘結(jié)相（玻璃粉）和有機(jī)載體組成。

工藝優(yōu)勢(shì)：

生產(chǎn)效率高，適合批量生產(chǎn)

成本相對(duì)較低

工藝穩(wěn)定性好

技術(shù)瓶頸：

線路精度受限（最小線寬約100μm）

燒結(jié)溫度影響基板性能

玻璃相可能導(dǎo)致高溫可靠性下降

最新研究表明，采用納米銀漿料可顯著降低燒結(jié)溫度（<300℃），同時(shí)提高導(dǎo)電層的致密性，這為TPC技術(shù)的升級(jí)提供了新思路。

二、先進(jìn)金屬化工藝研究進(jìn)展

2.1 活性金屬釬焊技術(shù)（AMB）

AMB技術(shù)通過(guò)在傳統(tǒng)釬料中添加Ti、Zr等活性元素，使其與AlN發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在界面處形成過(guò)渡層，從而顯著改善潤(rùn)濕性。根據(jù)使用溫度不同，活性釬料可分為以下幾類：

高溫釬料體系：

Au基釬料（Au-Ni-Ti等）

工作溫度：900-1100℃

優(yōu)點(diǎn)：抗氧化性強(qiáng)

缺點(diǎn)：成本高昂

Cu基釬料（Cu-Ti、Cu-Sn-Ti等）

工作溫度：800-900℃

優(yōu)點(diǎn)：成本較低

缺點(diǎn)：強(qiáng)度相對(duì)較低

工藝關(guān)鍵點(diǎn)：

必須采用真空或惰性氣體保護(hù)

界面反應(yīng)時(shí)間需精確控制

冷卻速率影響接頭殘余應(yīng)力

2.2 共燒技術(shù)（HTCC/LTCC）

共燒技術(shù)根據(jù)燒結(jié)溫度可分為高溫共燒（HTCC）和低溫共燒（LTCC）兩種工藝路線：

HTCC技術(shù)特點(diǎn)：

燒結(jié)溫度：1600-1900℃

使用金屬：W、Mo等高熔點(diǎn)金屬

優(yōu)勢(shì)：熱穩(wěn)定性極佳

挑戰(zhàn)：金屬電阻率較高

LTCC技術(shù)改進(jìn)：

通過(guò)添加玻璃相降低燒結(jié)溫度（850-900℃）

可采用Ag、Cu等低電阻金屬

需解決與AlN的熱匹配問(wèn)題

最新研發(fā)的梯度共燒技術(shù)通過(guò)優(yōu)化生瓷帶配方，實(shí)現(xiàn)了多層結(jié)構(gòu)的可靠燒結(jié)，為三維封裝提供了可能。

三、薄膜沉積技術(shù)對(duì)比研究

3.1 直接覆銅技術(shù)（DBC）

DBC技術(shù)的核心在于通過(guò)控制氧化工藝在AlN表面形成適宜的Al?O?過(guò)渡層。研究顯示，氧化溫度和時(shí)間對(duì)界面質(zhì)量有決定性影響：

優(yōu)化工藝參數(shù)：

氧化溫度：1300-1400℃

氧化時(shí)間：1-3小時(shí)

氧分壓：需精確控制

界面表征：

過(guò)渡層厚度：0.5-2μm

主要物相：γ-Al?O?

剪切強(qiáng)度：>50MPa

3.2 直接鍍銅技術(shù)（DPC）

DPC技術(shù)結(jié)合了半導(dǎo)體工藝和電鍍技術(shù)，其工藝流程包括：

表面預(yù)處理（清洗、活化）

種子層沉積（磁控濺射Ti/Cu）

圖形化（光刻、顯影）

電鍍加厚（銅層可達(dá)100μm）

后處理（退火、表面處理）

技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)：

采用脈沖電鍍提高鍍層致密性

開(kāi)發(fā)新型阻擋層（如TaN）防止銅擴(kuò)散

優(yōu)化退火工藝降低內(nèi)應(yīng)力

四、技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與展望

隨著第三代半導(dǎo)體（SiC、GaN）器件的快速發(fā)展，對(duì)AlN陶瓷金屬化技術(shù)提出了更高要求。未來(lái)重點(diǎn)發(fā)展方向包括：

新型界面工程：

開(kāi)發(fā)納米復(fù)合過(guò)渡層

研究自組裝分子膜技術(shù)

探索原子層沉積（ALD）工藝

綠色制造技術(shù)：

無(wú)氰電鍍工藝開(kāi)發(fā)

低溫?zé)Y(jié)技術(shù)優(yōu)化

廢液回收處理系統(tǒng)

智能化生產(chǎn)：

在線質(zhì)量監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

人工智能工藝優(yōu)化

數(shù)字化孿生技術(shù)應(yīng)用

多功能集成：

嵌入式無(wú)源元件

三維互連結(jié)構(gòu)

散熱-電磁屏蔽一體化設(shè)計(jì)

五、結(jié)論

氮化鋁陶瓷金屬化技術(shù)已形成多種工藝路線并存的格局，各種技術(shù)各有優(yōu)劣。在實(shí)際應(yīng)用中，需要根據(jù)具體的使用環(huán)境、性能要求和成本預(yù)算進(jìn)行綜合考量。未來(lái)，隨著新材料、新工藝的不斷涌現(xiàn)，AlN陶瓷金屬化技術(shù)將向著更高性能、更低成本和更環(huán)保的方向發(fā)展，為高端電子封裝提供更可靠的解決方案，想要更多了解陶瓷線路板的相關(guān)問(wèn)題可以咨詢深圳市金瑞欣特種電路技術(shù)有限公司，金瑞欣有著多年陶瓷線路板制作經(jīng)驗(yàn)，成熟DPC和DBC工藝，先進(jìn)設(shè)備、專業(yè)團(tuán)隊(duì)、快速交期，品質(zhì)可靠，值得信賴。